原位薄膜應力測試儀采用非接觸激光MOS技術；不但可以對樣品表面應力分布進行統計分析，而且還可以進行樣品表面二維應力、曲率成像分析；客戶可自行定義選擇使用任意一個或者一組激光點進行測量；并且這種設計始終保證所有陣列的激光光點始終在同一頻率運動或掃描，從而有效的避免了外界振動對測試結果的影響；同時提高了測試的分辨率；適合各種材質和厚度薄膜應力分析；

原位薄膜應力測試儀

典型用戶：Harvard University 2套，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大學，中國計量科學院等、半導體和微電子制造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等所采用；

相關產品：
薄膜應力儀（kSA MOS 薄膜應力測量儀）：為獨立測量系統，同樣采用多光束MOS技術，詳細信息請與我們聯系。

設備名稱：

原位薄膜應力測量系統，原位薄膜應力測試儀，原位薄膜應力計，薄膜應力儀，kSA MOS Film Stress Tester, kSA MOS Film Stress Measurement System;

主要特點：

  1.MOS 多光束傳感器技術；
  2.單Port(樣品正上方)和雙Port(對稱窗口)系統設計；
  3.適合MOCVD, MBE, Sputter，PLD、蒸収系統等各種真空薄膜沉積系統以及熱處理設備等；
  4.薄膜應力各向異性測試和分析功能；
  5.生長速率和薄膜厚度測量；（選件）
  6.光學常數n&k 測量；（選件）
  7.多基片測量功能；（選件）
  8.基片旋轉追蹤測量功能；（選件）
  9.實時光學反饋控制技術，系統安裝時可設置多個測試點；
  10.免除了測量丌受真空系統振動影響；

測試功能：
  1.實時原位薄膜應力測量
  2.實時原位薄膜曲率測量
  3.實時原位應力*薄膜厚度曲線測量
  4.實時原位薄膜生長全過程應力監控等